クレステックは徹底したマーケットイン志向の電子線描画技術を専門としたナノテク企業です
我们的业务
电子束光刻系统 - Electron Beam Lithography System
制品
CABL-UH（130kV）series
CABL-UH 是更高阶的加速电压模型。您可以选择90kV，110kV或130kV。
光束直径 : <1.6 nmΦ
相关电压: 130 kV, 110 kV 或
90 kV
作业平台尺寸: 8寸晶圆型号
CABL-AP (50kV) series
它也是适用于各种应用的学术和研发模型，并且是最适合用于通信用半导体激光器的DFB-LD生产的生产模型。
我们实现了50kV的高分辨率和高吞吐量。
光束直径 : < 2 nmΦ (for Academic and R&D)
< 3 nmΦ (for Production)
相关电压 : 50kV, 30kV
作业平台尺寸 : 4寸, 6寸,
8寸 晶圆型号
光刻代工服务
Crestec公司提供EB光刻的代工服务。我们可以撰写DFB-LD生产的精细光栅图案，以及任何种类的研发图案。
我们有超过20年的电子束光刻经验。如您有极精细光刻图案需求，请随时与我们联系。