クレステックは徹底したマーケットイン志向の電子線描画技術を専門としたナノテク企業です

我们的业务

           Crestec公司在东京成立于1995年,我们交付了EB光刻系统,遍布全球50多个客户。我们也提供EB代工服务。
           我们可以为DFB-LD制作精细的控制音调L / S图案。 CABL-9000C型号是DFB-LD市场的畅销机种。

电子束光刻系统-EB Lithography System

CABL-UH(130kV)series

CABL-UH

使用较高的加速电压,EB抗蚀剂的前向散射较少。 CABL-UH型号的精度可达小于10nm。

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CABL-9000C(50kV)series

CABL-9000C

它是用于光通信设备的DFB激光源晶粒生产的最佳选择。
我们实现了50kV的高分辨率和高吞吐量。

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客户名单

我们为大学提供EB光刻系统科研院所研发的目的,和私营公司也用于生产。 
 

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2017/11/14
【Exhibition】Semicon Japan 2017 
【Show name】 Semicon Japan 2017 【Date & Period】Dec. 13-15 【Location】 Tokyo Big Sight (Tokyo, Japan) 【Booth#】5835 We are looking forward to seeing you!!
2017/04/27
【Paper】Dr. Satoshi Takei (Toyama Prefectural University)
Our CABL-8000TF SERIES User, Dr. Satoshi Takei's paper was published in AIP Advances (online). “High-resolution nanopatterning of biodegradable polylactide by thermal nanoimprint lithography using gas permeable mold” Satoshi Takei, and Makoto Hanabata AIP Advances 7, 035110 (2017); http://doi.org/10.1063/1.4978448

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