CRESTEC Corporation/ EBL│電子線描画装置のクレステック

我们的业务

Crestec公司在东京成立于1995年，我们交付了EB光刻系统，遍布全球50多个客户。我们也提供EB代工服务。

我们可以为DFB-LD制作精细的控制音调L / S图案。 CABL-9000C型号是DFB-LD市场的畅销机种。

使用较高的加速电压，EB抗蚀剂的前向散射较少。 CABL-UH型号的精度可达小于10nm。

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它是用于光通信设备的DFB激光源晶粒生产的最佳选择。
我们实现了50kV的高分辨率和高吞吐量。

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我们为大学提供EB光刻系统科研院所研发的目的，和私营公司也用于生产。

2019/01/22: 【Exhibition】Photonics West 2019; 【Show name】Photonics West 2019 【Date & Period】FEB 05-07 【Location】 Moscone Center, San Francisco, CA, USA 【Booth#】4960 We are looking forward to seeing you!!

2019/01/08: 【Exhibition】Nano Tech2019; 【Show name】 Nano Tech2019 【Date & Period】Jan., 30 - Feb., 01 【Location】Tokyo Big Sight 【Booth#】5D-05 We are looking forward to seeing you!!

2018/12/06: Holiday Notice; Please be informed that our office will be closed on December 29 to January 06 due to New Year's holidays. We will resume operation on January 07.

2017/04/27: 【Paper】Dr. Satoshi Takei (Toyama Prefectural University); Our CABL-8000TF SERIES User, Dr. Satoshi Takei's paper was published in AIP Advances (online). “High-resolution nanopatterning of biodegradable polylactide by thermal nanoimprint lithography using gas permeable mold” Satoshi Takei, and Makoto Hanabata AIP Advances 7, 035110 (2017); http://doi.org/10.1063/1.4978448