高加速電圧の採用により、レジスト内の電子線の前方散乱が少なく、より微細な加工が可能な電子線描画装置です。
ビーム径:1.6nmΦ以下
最小線幅:7nm以下
加速電圧:130kV, 110kV, 90kV
ステージ:8インチ対応
クレステックでは長年のノウハウを活かし、研究開発用の単品加工から、生産用の複数枚継続加工まで、お客様のご要望にお応えすべく、受託加工有償サービスを提供いたします。 ご希望の描画パターンレイアウト図を用意していただき、お気軽にご相談ください。近年は通信用半導体レーザー(DFB-LD)向けグレーティングパターンの依頼が多くなっております。